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《科创板日报》4月20日讯(记者 吴旭光)4月18日,拓荆科技发布2022年年报,公司去年实现营收17.06亿元,同比增长125.02%;实现归母净利润3.69亿元,同比增长438.09%。值得一提的是,这也是拓荆科技首次实现盈利,根据科创板相关规定,4月19日起,公司股票名称成功摘“U”。
对于业绩大幅增长的原因,拓荆科技解释,受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加,加上公司产品结构不断优化,产品竞争力持续增强,并进一步拓展客户群体,销售订单大幅增加,营业收入持续高增长。
此外,年报显示,拓荆科技去年销售订单达43.62亿元,新增订单较上年同期增加95.36%。
业绩高涨的同时,公司股价也表现强劲。4月1日至4月20日,公司股价上涨超过53.24%,截至4月20日,该公司股价盘中报456.96元/股,涨幅超过3.76%,今年以来,拓荆科技的股价累计涨幅达103.63%,目前公司市值超过577亿元。
从业绩高增到订单饱满,再到股价暴涨,公司高成长性背后究竟有哪些逻辑支撑?
上海某芯片投资机构负责人曹兵在接受《科创板日报》记者采访时表示,主线逻辑是本土化替代的加速推进,半导体设备技术壁垒高,国产设备自给率低,本土化替代市场空间大,客观上看,8寸FAB厂的国产进程更容易,12寸晶圆厂的设备本土化进程更难。受国际市场限制,本土化进程明显加快,只要国产设备能用的,基本上都会考虑,给试用机会或试错的机会。
持有相同观点的还有创道投资咨询总经理步日欣,其进一步补充,公司深耕行业细分领域,产品也都是芯片生产环节不可或缺的关键设备。如今,半导体设备本土化进程加快,下游产线建设给了上游国产设备更多的机会。
东吴证券在研报中亦表示,拓荆科技主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。薄膜沉积设备作为前道三大核心设备,价值量占比高达22%,日本政府3月31日宣布限制23项半导体制造设备的出口,其中包括11项薄膜沉积设备,有望加速薄膜沉积设备国产创新。
除本土化替代机会,拓荆科技持续在新产品、新技术上加大研发投入。年报显示,拓荆科技去年研发投入3.79亿元,同比增加31.37%。拓荆科技表示,通过自主研发,公司形成了一系列具有自主知识产权的核心技术,公司产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断。
不过,与公司研发费用同样大幅增加的还有销售费用。2022年,拓荆科技销售费用为1.92亿元,同比增长98.3%。公司对此解释称,销售费用较上年同期增幅较大,主要是随着公司销售收入增加带来的售后质量保证金计提增长,同时职工薪酬增加所致。
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